半導体

半導体におけるレゾナック・ガスプロダクツ

半導体の製造現場では、当社の多様な産業ガスが活用されています。
窒素は、化学反応を抑える不活性雰囲気を維持し、酸素はシリコン表面に酸化膜を形成します。水素は結晶成長や不純物の除去に用いられ、アルゴンはプラズマ加工やスパッタリングによる薄膜形成に欠かせません。また、ヘリウムは冷却工程に使用され、ドライアイスは低温輸送時の温度管理に役立っています。当社は、これらの産業ガスを通じて、半導体製造の安定した生産環境を支えています。

Point 1

産業ガスの力で
半導体の未来を支える